SJ 20714-1998
砷化鎵拋光片亞損傷層的X射線雙晶衍射試驗(yàn)方法
Test method for sub-surface damege of gallium arsenide polished wafer by X-ray double crystal diffraction
- 標(biāo)準(zhǔn)號(hào)
- SJ 20714-1998
- 發(fā)布
- 1998年
- 發(fā)布單位
- 行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)-電子
- 當(dāng)前最新
- SJ 20714-1998
- 適用范圍
- 本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了砷化鎵拋光片亞損傷層的X射線雙晶衍射試驗(yàn)方法。 本標(biāo)準(zhǔn)適用于經(jīng)過化學(xué)、機(jī)械單面和雙面拋光的砷化鎵晶片亞損傷層的定性測(cè)量。